Tecnologia PaCVD (DLC)


Nel caso della tecnologia PaCVD, Deposizione Chimica da fase Vapore assistita da Plasma, la generazione avviene per via chimica. Gli elementi che vanno a comporre lo strato di rivestimento sono forniti sotto forma gassosa e attraverso reazioni chimiche vengono resi disponibili per la deposizione.
Questa tecnologia offre le migliori performance per la deposizione di rivestimenti Diamond Like Carbon di alta qualità.


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La presenza del plasma è essenziale per la formazione dei composti da depositare. L’energia per avviare le reazioni chimiche viene fornita proprio dal plasma. Ciò consente alla reazione di essere avviata anche a temperature basse, fino a quella ambiente.

Abbiamo perfezionato le nostre macchine per massime prestazioni

Nel 2011 iniziavamo la nostra attività strategica di continuo miglioramento delle tecnologie di deposizione con l’autocostruzione del nostro primo impianto PaCVD per DLC.

Oggi le nostre macchine sono progettate per garantire massima precisione e versatilità, in modo tale da consentire un’elevata produttività e la ripetibilità del rivestimento e delle sue prestazioni.

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