Tecnologia di deposizione PACVD

PACVD ovvero Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition, (deposizione chimica da fase vapore assistita da plasma).
Nel caso del PACVD, la generazione avviene per via chimica. Gli elementi che vanno a comporre lo strato di rivestimento sono forniti sotto forma gassosa e attraverso reazioni chimiche vengono resi disponibili per la deposizione. La presenza del plasma è essenziale per la formazione dei composti da depositare.
L’energia per avviare le reazioni chimiche che nel caso del processo CVD tradizionale è fornita dalla temperatura nel caso del PACVD viene fornita proprio dal plasma.
Ciò consente alla reazione di essere avviata anche a temperature basse, fino a quella ambiente.